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电子行业:国产设备新品持续发布,零部件国产化加速推进-半导体SEMICON大会跟踪报告250330

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新凯来首次亮相SEMICON,标志着国产设备整体实力进一步提升。新凯来首次亮相SEMICON,展示扩散、刻蚀、薄膜沉积、量检测四大类半导体设备,涵盖EPI、RTP、ICP/CCP、PVD、CVD、PEALD/Thermal ALD、明场/暗场/无图形/掩模版检测、套刻精度量测等细分工艺。公司产品工艺覆盖度较高,如刻蚀设备可以适用硅、介质、金属等材料,并且已…

研究对象电子
发布机构招商证券
分析师鄢凡
发布日期2025-03-30
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研究对象电子
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研报摘要

摘要原文以原始报告为准

新凯来首次亮相SEMICON,标志着国产设备整体实力进一步提升。新凯来首次亮相SEMICON,展示扩散、刻蚀、薄膜沉积、量检测四大类半导体设备,涵盖EPI、RTP、ICP/CCP、PVD、CVD、PEALD/Thermal ALD、明场/暗场/无图形/掩模版检测、套刻精度量测等细分工艺。公司产品工艺覆盖度较高,如刻蚀设备可以适用硅、介质、金属等材料,并且已经掌握双大马士革、超高深宽比等关键工艺;ALD设备可适配国内先进节点,覆盖PEALD和Thermal ALD两大工艺。从机台设计来看,公司刻蚀、薄膜设备采用多腔体结构,设备集成度较高,可根据不同需求配置不同的腔体;从客户覆盖度来看,公司多种产品覆盖国内头部逻辑/存储Fab客户,部分支持先进节点。

国产设备平台化布局持续推进,新品发布和技术创新加速。2024年以来,国内设备行业围绕平台化布局+新品拓展两大主线,整体国产化率进一步提升。①新凯来工艺覆盖度较高,平台化布局相对完善;北方华创、华海清科开拓离子注入产品线;拓荆科技持续从前道设备向3D IC环节推进;②国内设备公司细分工艺创新加速,如中微ICP刻蚀设备刻蚀精度进一步突破,拓荆ALD中科飞测、精测电子、天准科技等公司关键机台在头部产线进展顺利。

SEMICON大会提高零部件关注度,2025年国产化进程预计加快。国内设备和零部件技术实力不断提升,叠加海外半导体零部件出口管制加剧,基于对供应链安全等的考量,国内设备厂商替代进口零部件的意愿强烈,国产零部件需求相对旺盛。国内头部零部件厂商已经批量供货国内头部Fab和设备厂商,国产替代进展顺利,本次SEMICON大会进一步提升国产零部件关注度,2025年零部件国产替代进程预计进一步加速。

投资建议。SEMICON大会展现国内半导体设备技术实力,国产零部件厂商关注度进一步提高。建议关注受益于平台化布局或技术产品创新加速的北方华创、中微公司、拓荆科技、华海清科、中科飞测、精测电子、精智达等的设备厂商;建议关注受益于半导体零部件国产替代加速的富创精密、新莱应材、正帆科技、英杰电气、珂玛科技、先锋精科等零部件厂商。

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