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拓荆科技(688072):业绩高增长,新机台新工艺持续突破,大陆需求旺盛奠定发展基础250217

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摘要原文摘录

拓荆科技是国内集成电路薄膜沉积设备国产替代的龙头,深耕于薄膜沉积设备和混合键合设备的研发和产业化应用。公司产品线形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充 CVD 等薄膜产品系列以及混合键合系列产品的全面布局。

研究对象拓荆科技
发布机构华源证券
分析师葛星甫
发布日期2025-02-17
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机构观点归属华源证券,研报雷达仅作摘要整理与机构观点聚合。以下为研报摘要原文摘录,内容以原始报告为准。

研究对象拓荆科技
股票代码688072
公司共识评级看好近 180 天 · 15 家机构
一致目标价¥581.92中位数 · 4 家机构

研报摘要

摘要原文以原始报告为准

投资要点

拓荆科技是国内集成电路薄膜沉积设备国产替代的龙头,深耕于薄膜沉积设备和混合键合设备的研发和产业化应用。公司产品线形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充 CVD 等薄膜产品系列以及混合键合系列产品的全面布局。

业务持续扩张,收入高速增长。公司凭借其先进的技术储备和研发、丰富的客户资源以及高效售后服务的优势不断拓宽在薄膜沉积设备和混合键合设备的量产和业务规模,持续获得客户订单并建立与下游客户的稳定合作关系,公司产品销量大幅增长,实现业务规模和营收的高速增长。公司营收自 2018 年呈现高速增长态势,从0.71 亿元增长至 2023 年 27.05 亿元营收,CAGR 约为 107.1%。2024 年前三季度达到 22.78 亿元营收,同时根据公司业绩预告,全年公司营收预计实现 40-42 亿元,由此推算公司 2024 年 Q4 预计营收为 17-19 亿元,同比实现 70%-90%增长,增长动能强劲。公司设备出货量实现逐年大幅增长,2024 年出货超过 1000 个设备反应腔,突破历史新高。

产品研发场景持续迭代,产业化应用不断深化。公司不断突破核心技术发展,保持高水平的研发投入持续推进产品产业化和各产品系列迭代,2024 年前三季度公司研发费用增至 4.81 亿元实现同比增长 36%。2024 年公司取得 Flowable CVD 设备、PECVD Bianca 工艺设备、PE-ALD SiN 工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺的客户端导入验证,完成产业化应用,新型设备平台 PF-300M、PF-300T Plus 及新型反应腔 Supra-DACHM、ONO Stack 等工艺设备收获客户重复订单和大批量出货,公司不断扩大以PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 为主的薄膜工艺覆盖面,产品核心竞争力不断增加。

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