拓荆科技(688072)：拓荆科技：薄膜沉积加混合键合龙头，股权激励锁定人才250309

投资要点

公司发布 2025 年限制性股权激励草案，拟向激励对象授予不超过 126.7894 万股限制性股票，授予价格 90 元/股，激励对象总人数不超过 1072 人，约占公司 2024 年 12 月31 日员工总数的 69.97%。

发布 2025 年股权激励草案，锁定核心团队和人才。本次激励涉及的股票来自公司从二级市场回购的公司 A 股股票，授予价格低，授予人员范围广，将有利于充分激发核心团队的主观能动性，增强公司的竞争实力。激励计划考核年度 2025-2026 年，以公司 2023年营收和归母净利润为基数设置增长率目标，要求：2025 年营收触发值/目标值 46/50亿元，净利润触发值/目标值 9.9/10.6 亿元；2026 年营收触发值/目标值 54/60 亿元，净利润触发值/目标值 11.9/12.6 亿元。假设 2025 年 3 月末授予，预计 2025-2027 年分别产生摊销费用约 6372/4321/732 万元。

2024 年营收继续高速增长，高研发投入和新品验证一定程度影响利润。公司发布 2024年业绩预告，预计 2024 年全年营收 41 亿元，同比增长 51.7%，扣非后归母净利润 3.56亿元，同比增长 14.2%，归母净利润 6.9 亿元，同比增长 3.9%。营收持续高速增长主要得益于行业持续高景气，公司凭借其在薄膜沉积设备领域的领先地位各系列产品量产规模不断扩大，前序订单稳步交付；利润增速相对承压，主要因报告期内公司持续保持高研发投入、同时交付的机台中新设备新工艺较多致成本费用有所增加。

布局“薄薄膜沉积+混合键合”，继续受益国内先进晶圆产线扩产和国产替代。薄膜沉积设备领域，公司继续推进工艺拓展和产品迭代升级，Flowable CVD 设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN 工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI 工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入，已实现产业化；新型设备平台 PF-300M、PF-300T Plus 及新型反应腔 Supra-D ACHM、ONO Stack 等工艺设备也持续获得客户重复订单。此外，公司布局混合键合设备，且也已实现产业化，进一步瞄准晶圆级三维集成应用场景。

盈利预测：我们预计公司 2024-2026 年营业收入为 41.03、53.83、69.91 亿元，同比增长 51.7%、31.2%、29.9%，归母净利润为 6.88、11.26、14.71 亿元，同比增长 3.9%、63.6%、30.6%，首次覆盖，给予薄增持”评级。

风险提示

下游晶圆厂扩产不及预期、新设备和新工艺验证不及预期、行业竞争加剧、中美科技博弈风险。