个股研报电子有原文

中微公司(688012):半导体设备上行周期有望持续,产品覆盖深度广度或加速推进

查看原始报告

这篇研报讲什么?

摘要原文摘录

半导体设备上行周期或持续: 2025 全年营收 123.85 亿元(人民币,下同),归母净利润 21.1 亿元,符合之前预告/我们的预期。我们认为,受人工智能基建高景气影响,终端集成电路需求快速上升,晶圆制造产能供不应求,加之国产设备技术能力和市占率的进一步上升,中微公司作为国产设备龙头公司或显著受益。

研究对象中微公司
发布机构交银国际证券
分析师王大卫,童钰枫
发布日期2026-04-02
原始报告提供原始报告入口

机构观点归属交银国际证券,研报雷达仅作摘要整理与机构观点聚合。以下为研报摘要原文摘录,内容以原始报告为准。

研究对象中微公司
股票代码688012.SH
公司共识评级看好近 180 天 · 27 家机构
一致目标价¥420中位数 · 17 家机构

研报摘要

摘要原文以原始报告为准

中微公司(688012)

半导体设备上行周期或持续: 2025 全年营收 123.85 亿元(人民币,下同),归母净利润 21.1 亿元,符合之前预告/我们的预期。我们认为,受人工智能基建高景气影响,终端集成电路需求快速上升,晶圆制造产能供不应求,加之国产设备技术能力和市占率的进一步上升,中微公司作为国产设备龙头公司或显著受益。

刻蚀/薄膜沉积/量检测/湿法设备全面开花:令我们最为鼓舞的是,公司在产品研发/销售的深度和广度上持续取得进展。广度上,管理层指引总体设备覆盖率在今后 5-10 年从现有的 30%的设备品类上升到 60%(包括有机生长和并购)。 刻蚀方面:管理层称 CCP/ICP 应用覆盖率分别到达95%/99%。公司在 2025 年完成开发 90:1 极高深宽比等离子刻蚀机,并或在之后进一步拓展到 140: 1 硅材料的刻蚀机。公司披露等离子刻蚀设备已应用于海内外一线客户 3 纳米及更先进的众多刻蚀应用。管理层之前指ICP 在手订单或多于 CCP 订单,我们预测公司 ICP 收入 2026 年增速快于CCP, CCP/ICP 2026 年收入分别为 61.8/65.0 亿元。 薄膜沉积方面: 2025 年实现收入 5.06 亿元(主要是钨材料薄膜 3D NAND 制造),略超过我们的预测 4.98 亿元。管理层指出薄膜沉积订单为 7.56 亿元,我们预测公司 2026年薄膜沉积设备收入或达 8 亿元。薄膜产品技术进步明显: Si/SiGe EPI(外延)取得均匀性突破。我们认为这或帮助公司进入 GAAFET(逻辑)和 3DDRAM(存储)先进产能供应链。 量检测方面:我们认为电子束量检测设备技术门槛高,国产化率低于 5%,且使用率随逻辑电路制造复杂度上升而上升。公司从零开始组建电子束量检测团队, CD( critical dimension) -SEM 设备开发在 12 个月获得图像, 18 个月设备正常运转。

维持买入评级:我们认为,在全球集成电路产品供应普遍紧缺的条件下,半导体设备上行周期或持续至少到 2027 年。我们微调 2026E/27E 营收预测到 162.6 亿/196.0 亿元(前值 162.0 亿/193.6 亿元),调整 2026E/27E EPS到 5.56/6.96 元(前值 5.59/6.91 元)。我们继续好看国产半导体设备市场前景,上调目标价到 418 元(前值 415 元),对应 2027 年 60 倍市盈率(维持不变),维持买入。

同公司研报

继续比较不同机构对同一公司的判断。

进入公司页

同行业近期研报

从单家公司继续回到行业研究。

进入行业专题