半导体行业SiC深度(一):先进封装,英伟达、台积电未来的材料之选251105
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摘要原文摘录根据行家说三代半,9月2日,据中国台湾媒体报道,英伟达正计划在新一代GPU芯片的先进封装环节中采用12英寸碳化硅衬底,最晚将在2027年导入。
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研报摘要
摘要
根据行家说三代半,9月2日,据中国台湾媒体报道,英伟达正计划在新一代GPU芯片的先进封装环节中采用12英寸碳化硅衬底,最晚将在2027年导入。
解决CoWoS封装散热问题成为AI算力芯片发展重要课题根据《高算力Chiplet的热管理技术研究进展》,集成电路发展受到“功耗墙”的严重制约。英伟达和AMD在追求算力大幅提升的情况下,不得不继续提高芯片功率。主流算力芯片基本标配CoWoS封装,尤其英伟达算力芯片全部使用CoWoS封装。因此我们认为AI算力芯片的发展亟需解决CoWoS封装散热的难题。
SiC有望成为未来CoWoS发展中Interposer最优解CoWoS核心价值在于interposer(中介层)的连通作用,Interposer当前与未来面临热管理、结构刚性等难题。根据北京大学、Nature等相关论文,当前的Si和玻璃在材料特性上不及SiC与金刚石,而金刚石仍难以匹配芯片制造工艺,因此我们判断,因为SiC在性能与可行性两方面的优势,有望成为未来CoWoSinterposer的最适宜替代材料。
如CoWoS未来采用SiC,中国大陆SiC产业链有望重点受益如CoWoS未来将Interposer替换为SiC,且如按CoWoS 28年后35%复合增长率和70%替换SiC 来推演,则30年对应需要超230万片12吋SiC衬底,等效约为920万片6吋,远超当前产能供给。而中国大陆SiC具备投资规模、生产成本、下游支持的三大优势,未来有望重点受益。投资建议虽然材料替换仍需产业和技术的进一步推进,但我们认为趋势上SiC有较大的可能获得一个全新巨大的增长机遇,SiC衬底与设备公司有望重点受益。受益标的:晶盛机电、晶升股份、天岳先进、三安光电、通威股份、天富能源、华纬科技、宇晶股份等。
风险提示
新技术推进不及预期、行业竞争加剧、地缘政治风险等。
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